Home
->  10月開催 化学系セミナー 

顔料分散の安定化と
分散状態評価および分散機の使い方

10月開催 化学系セミナー  更新日:2008年09月03日
 セミナー番号【810244】 10/22講師4名
★分散状態がどのように制御されているのか?
★分散装置の使用上のポイントとは?
★ナノサイズによる機能性の向上と分散性改善手法を解説!

顔料分散の安定化と
分散状態評価および分散機の使い方


講 師


第1部:三重大学 大学院 工学研究科 分子素材工学専攻 教授 工学博士 川口 正美 氏

第2部DIC(株) 生産プロセス本部 本部長 野口 典久 氏

第3部:戸田工業(株) 創造本部 大竹創造センター 部長 林 一之 氏

第4部:三菱化学(株) ディスプレイ材料事業部 画像研究所 グループマネージャー 迫 直樹 氏



日 時 平成20年10月22日(水) 10:30~17:45

会 場 [東京・大井町] きゅりあん 4F 第1グループ活動室

聴講料 1名につき 63,000円(消費税込、昼食・資料付)
*〔1社2名以上同時申込の場合1名につき52,500円〕

プログラム
【10:30~12:00】

第1部:高分子添加による顔料分散状態の制御および評価

三重大学 川口 正美 氏

【講演の趣旨】
 顔料分散系をサスペンションの一つと捕らえ、高分子を添加することによって、その分散状態が如何に制御されるのか、分散状態をどのように評価したらよいのかについて、基礎的事項並びに幾つかの事例を挙げながら論述する。

 

1.固体粒子の分散状態の基礎

2.固体粒子の分散安定性に果たす高分子の役割

3.高分子吸着の基礎

4.固体粒子の分散状態の評価方法

5.高分子添加による固体粒子の分散状態の制御および評価の実例
   5.1 ポリスチレンラテックスの分散
   5.2 シリカ粒子の分散
   5.3 酸化セリウム粒子の分散

【質疑応答】


【12:45~14:15 】

第2部:顔料の微粒子化技術と分散装置使用上の留意点

DIC(株) 野口 典久 氏

1.顔料インキの製法及び、分散機  
   1.1 分散工程を伴う一般的製法  
   1.2 フラッシュ製法  
   1.3 その他(プレミックス技術、顔料の前処理技術)

2.各種分散機とその特徴   
   ~分散原理、機械的構造の特徴、性能向上への工夫、使用上の留意点等~
   2.1 サンドミル
   2.2 ロールミル
   2.3 その他(特徴ある機械、使用法 等)
      1) 循環流動方式による分散
      2) タンディム方式による分散
      3) ホモジナイザーの活用
      4) バスケット方式のミルの活用
      5) ラインミキサー、超音波方式分散機
      6) 小径ビーズを使用する新型ミル

 

【質疑応答】


【14:30~16:00 】

第3部:顔料ナノ粒子の実用化と課題

戸田工業(株) 林 一之 氏

【講演の趣旨】
 顔料ナノ粒子をおよそ粒子径が100nm 以下の粒子と定義し、顔料ナノ粒子の共通の問題点として、その分散性の確保について着目し、筆者らが経験してきた酸化鉄系ナノ顔料粒子を中心として、ナノサイズ化による機能性の向上とそれを得るための分散性改善の手法を説明する。続いて、酸化鉄系ナノサイズ顔料粒子への表面処理技術の応用による基本特性の改善(耐熱性向上)、および多色化(有機顔料コーティング)などについて概説する。

 

1.はじめに

2.顔料ナノ粒子の調製と機能性向上
   2.1 ナノサイズ赤色透明酸化鉄粒子の分散性改善
   2.2 ナノサイズ黄色透明酸化鉄粒子の耐熱性向上
   2.3 ナノサイズ透明酸化鉄粒子の多色化

3.まとめ

 

【質疑応答】


【16:15~17:45 】

第4部:カラーフィルタ用顔料分散レジストの 特性と分散安定化

三菱化学(株) 迫 直樹 氏

【講演の趣旨】
 LCDカラーフィルタ用のカラーレジストには、耐久性等の点で、古くから顔料分散系が用いられている。最近では、LCDのTV用途への広がりに伴い、益々高度化する要求特性に対応するために、業界でも最先端の顔料分散技術が応用される分野となっている。本講演では、最近のカラーフィルタに求められる高い要求特性に対して、どのような顔料分散技術を適用し、どう機能しているのか、また分散安定性のカラーフィルタ特性への影響等についても併せて詳述する。

 

1.LCDパネルとカラーフィルタ構造
   1.1 LCDパネル構造
   1.2 カラーフィルタ製造工程
   1.3 カラーフィルタの役割
   1.4 XYZ表色系

2.カラーフィルタの要求特性
   2.1 色特性(輝度・コントラスト)
   2.2 フォトリソ特性・パターン形状
   2.3 信頼性
   2.4 耐久性
   2.5 プロセス適性

3.顔料分散レジストの安定化
   3.1 レジスト材料
   3.2 顔料分散プロセス
   3.3 レジスト安定性のカラーフィルタ特性への影響

 

【質疑応答】